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표면분석 정리

저작시기 2016.12 |등록일 2017.04.09 한글파일한컴오피스 (hwp) | 5페이지 | 가격 2,000원

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목차

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본문내용

* 표면 분광법
→ 고체 표면을 분광학적으로 분석하는 일반적인 방법
→ 고체 시료는 광자, 전자, 이온 또는 중성 분자로 이루어진 1차 살(primary beam)로 쪼여줌
→ 고체 표면으로부터 광자, 전자, 분자, 또는 이온들로 이루어진 2차 살(secondary beam)이 형성되어 튀어나옴
→ 1차 살의 구성 성분이 2차 살의 구성 성분과 같을 필요는 없다는 점에 유의
→ 산란, 튀어나옴(sputtering) 또는 방출로 인해 생긴 이러한 2차 살은 여러 분광학적 방법에 의해 연구됨

* 가장 효과적인 표면분석법은
1차 살이나 2차 살 또는 둘 모두가 광자가 아니라 전자, 이온 또는 분자로 구성되어야 함
→ ∵ 측정하는 것이 본체가 아니라 시료의 표면이기 때문

* 표면 연구 전자 분광법
ⓐ X-선 광전자 분광법(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS), 또는 화학분석 전자 분광법(electron spectroscopy for chemical analysis, ESCA)
→ 가장 많이 사용 → 시료표면을 단색 X-선으로 쪼여줌

ⓑ Auger 전자 분광법(Auger electron spectroscopy, AES)(21B-4절)
→ ㉠ X-선을 사용하기도 하지만 ㉡ 대부분 전자 살에 의해서 들뜸

ⓒ 자외선 광전자 분광법(ultraviolet photoelectron spectroscopy, UPS)
→ 자외선 단색 빛살을 이용하여 분석물로부터 전자를 떼어냄
→ 앞의 다른 두 가지 종류에 비해 별로 사용하지 않음

* 전자 분광법
ⓐ 수소와 헬륨을 제외한 주기율표에 있는 모든 원소 확인 가능
ⓑ 한 원소의 산화상태 결정, 결합된 화학종의 종류 알려줌
ⓒ 분자의 전자구조에 관한 유용한 정보 알 수 있음
기체와 고체, 용액과 액체 상태까지 응용 가능
→ 고체인 경우, 수 원자 층의 두께(20∼50Å)를 갖는 표면 층에만 국한된 정보를 알려줌
→ ∵ 전자의 침투력이 제한되어 있기 때문

참고 자료

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