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[기술용어해설]ALD Atomic Layer Deposition(ALD)

저작시기 2014.05 |등록일 2014.05.18 한글파일한컴오피스 (hwp) | 1페이지 | 가격 1,300원

목차

1. 의미
2. CVD 와 비교
3. 앞으로의 전망등

본문내용

한마디로 낮은 온도에 작업을 할 수 있도록 하는 기술이라고 생각하면 된다. 반도체는 더욱더 작은 크기, 더욱더 빠른 속도, 낮은 전력 소모량, 소자 당 낮은 가격을 목표로 개발되어져 왔으며, 최근에는 여러 가지 기능을 하나의 반도체 소자에서 수행을 할 수 있도록 개발되어 왔다. 그 결과, 반도체 소자에 사용되는 박막은 원자 단위로 제어되면서 단차 피복성이 우수한 특성을 가져야 하며, 계면에서 확산과 산화가 일어나지 않게 하기 위해 증착 온도가 낮아야 한다. 기존의 기술로서는 이러한 요구 조건을 충족시킬 수 없는 한계에 도달하게 되었다. 그러나 원자층 단위로 박막을 증착하는 기술이 개발되어져, 기존의 반도체 기술의 한계를 극복할 수 있게 되었다. 이러한 새로운 기술을 “Atomic Layer Deposition(ALD)”라 명명하게 된다.

참고 자료

없음
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