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Nano imprint lithography의 이해 및 응용(결과)

저작시기 2012.06 |등록일 2013.04.23 한글파일한글 (hwp) | 4페이지 | 가격 1,500원

목차

1. Bare Glass와 UV-Nano Imprint Lithography를 통해 제작한 patterned glass의 투과도 비교, 분석.
2. 나노 패턴이 사용될 수 있는 응용 분야에 대해 조사.
3. 태양전지에서 광학적 투과도를 향상시킬 수 있는 방법 조사.
Reference

본문내용

1. Bare Glass와 UV-Nano Imprint Lithography를 통해 제작한 patterned glass의 투과도 비교, 분석.

위의 그래프는 bare glass plate, the glass plate coated with UV imprint resin, the single side patterned glass plate with motheye structure, 그리고 the both sides of the patterned glass plate with moth-eye structure 의 투과도를 나타낸 그래프이다. Fig. 4(c). 350에서 800 nm 까지는 거의

<중 략>

3. 태양전지에서 광학적 투과도를 향상시킬 수 있는 방법 조사.
1) 반사율 조절.
반사율을 줄이면 광학적 투과도를 향상 시킬 수 있다. 물질의 반사율을 결정하는 요소는 굴절율 외에도 표면 처리나 태양광의 입사각등이 있다. 표면이 매끄럽지 못하면 표면에서 다중 반사가 일어남으로서 반사율을 줄일 수 있기 때문에 최근에 거의 모든 실리콘 태양 전지에서는 선택적 에칭이나 photo lithography 작업으로 표면을 texturing 한다. 반사 방지막을 설계할 때는 반도체의 Native oxide, 태양광의 파장에 따른 에너지 변화와 태양 전지의 파장에 따른 분광반응도를 고려해야 한다.

참고 자료

Imprinted Moth-Eye Antireflection Patterns on Glass Substrate, Sung-Hoon Hong.
KISTI 유망기술 100선 나노기술부분 2007. 한국과학기술정보연구원
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