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박막제조장비회사 조사

저작시기 2011.04 |등록일 2012.05.05 한글파일한컴오피스 (hwp) | 10페이지 | 가격 3,500원

소개글

박막제조장비 업체 5곳을 선택하여 박막제조장비 업체가 가진 기술을 분석하였습니다. 이 수업에서 A+를 받았습니다.

목차

1. 삼한박막진공(주)
2. (주)선익시스템
1) OLED 증착기술
2) Auto Aligner 기술
3) Organic source effusion cell 기술
4) Intergration 기술(자동화)
- 3 Cluster 장비 적용함에 따른 양산용 OLED 증착장비 개발
3. 에스엔유프리시젼
1) 박막 제조 장치 및 박막 제조 방법
2) 증착장치 및 이를 이용한 증착방법
3) 진공 증착 장비
4. (주)아이피에스
1) 자기장을 이용한 박막 증착 방법 및 장비
2) 박막증착장치
3) 알루미늄 화합물을 이용한 박막증착방법
5. (주)하이닉스반도체
1) 반도체 소자의 박막 증착 장비 및 이를 이용하는 박막 증착방법
2) 원자층 박막 증착장치 및 방법

본문내용

1. 삼한박막진공(주)
※ 이온샤워방식을 이용한 박막의 증착 및 도핑장치 특허
종래 널리 사용되고 있는 박막증착법에는 저압화학 증착법이나 플라즈마 화학증착법 및 스퍼터링법이 있다.

증착되는 박막에 이온을 도핑하고자 하는 경우에는 소스 가스에 도핑가스를 혼합하여 주입 확산시키는 것으로서 이 경우 단순히 박막 내에 이온이 도핑되는 것이 아니고 박막의 두께가 두꺼워지게 될 뿐만 아니라 이온 도핑효율이 급격히 저하되어 자유전자의 흐름이 원활하지 못하게 되며 결국 박막소자의 특성을 향상시킬 수 없게 되는 문제점이 있었다.
본 발명의 다른 목적은 별도의 장치를 사용하지 않고 하나의 설비로서 박막증착과 이온 도핑을 수행할 수 있도록 하여 설비원가의 절감과 공정의 간소화를 기할 수 있도록 한 이온샤워방식으로 이용한 박막의 증착 및 도핑장치를 제공하려는 것이다.
이러한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 금속, 반도체, 유전체 및 기타 박막을 증착시키는 설비의 내부에 DC바이어스전압이 인가되는 그리드를 설치하여 이온들을 집속 및 가속시켜 이온들을 도핑 하는 것을 특징으로 하는 이온샤워방식을 이용한 박막의 증착 및 도핑장치가 제공된다.
제3도에서 깊이에 따른 이온도즈량을 적분하면 시편(W)에 포함된 이온함량이 이온도핑시간과 비례함을 알 수 있다.

참고 자료

없음
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