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포토리소그래피 정의, 과정, PR의 종류 (Photolithography)

저작시기 2011.12 |등록일 2012.01.11 파워포인트파일MS 파워포인트 (ppt) | 22페이지 | 가격 1,000원

소개글

어떤 특정한 화학약품(Photo Resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변하는 원리를 이용하여 얻고자 하는 Pattern의 Mask를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 Mask의 Pattern과 동일한 Pettern을 형성시키는 공정

목차

Photo Resist

Negative PR

Positive PR

Photolithography Process
1. 기판세척 및 표면처리
2. PR coating
3. Soft-baking
4. Mask align & Exposure
5. Develop
6. Hard-baking
7. Etching

본문내용

2. PR coating

분사된(dispense) 액상(liquid) PR을 높은 회전수로 회전시켜
균일한 얇은 막의 형태로 기판 전체를 도포시키는 과정

▶ PR의 두께조절 : RPM, 스핀 시간, PR의 점성
▶ PR의 균일화 중요

3. Soft-baking

PR 내부의 용매(solvent) 및 수분을
증발시킴으로써 액체상태의 PR을
젤 상태로 변화시키는 과정

▶ Hot Plate 이용 (90 ℃ ~100 ℃ )
▶ PR에서 용매(solovent)를 제거
▶ PR의 접착력 향상
▶ PR의 평탄화
▶ Spin 동안 형성된 Stress 제거

참고 자료

없음
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