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Pulsed Laser Deposition

저작시기 2011.01 |등록일 2011.01.17 파워포인트파일MS 파워포인트 (pptx) | 11페이지 | 가격 1,000원

소개글

반도체 증착장비인 PLD의 원리와 종류를 종합한 영어 발표자료입니다.

목차

Vapor phase deposition
Set up for PLD
Laser ablation of the target material
Plume Behavioral Characteristics
Interaction of Pulsed Laser with Target
Deposition parameters of PLD
Advantage & Disadvantage of PLD

본문내용

PLD는 박막을 만드는 physical vapor deposition (PVD)의 한 방식이다. 만들고자 하는 물질의 target을 진공 Chamber에 위치시키고, 렌즈로 집중시킨 짧은 파장(높은 에너지)의 펄스 레이저를 쏘아 튀어나오는 플라즈마가 target과 마주보고 있는 고온의 기판에 묻어 결정화되는 것을 이용하는 실험법이다. PLD 방법은 타겟 물질의 조성을 옮기기 쉬운 특성이 있으며, 빠르고 비교적 무해하지만 박막의 크기가 제한되는 단점도 있다.

<중 략>

Pulsed Laser Deposition
Vapor phase deposition
Pulsed Laser Deposition
Vapor phase deposition
Physical Vapor Deposition
Sputter
E-beam/Thermal Evaporation
on
Hydride Vapor Phase Epitaxy
Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
Set up for PLD
Electronic excitation
Evaporation
Ablation
Plasma formation
Exfoliation
Laser ablation of the target material
Extremely dense.
Very short collisional mean free paths
Rapidly expands.
Highly directional.

이하생략

참고 자료

없음
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