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은 나노 잉크를 이용한 잉크젯 프린팅 (예비레포트)

저작시기 2009.04 |등록일 2010.03.25 한글파일한글 (hwp) | 5페이지 | 가격 900원

소개글

1. 반도체 제조공정 중 기존의 lithograph 공정과 잉크젯 프린팅 공정의 차이에 대해 조사하고 잉크젯 프린팅 공정을 적용하였을 경우 얻어지는 장점을 알아보자.
2. 은(silver) 합성 과정( polyol process) 에 관하여 알아보자.
3. 점도 측정의 원리 (BROOKFIELD)에 대해서 알아보자.

목차

1. 반도체 제조공정 중 기존의 lithograph 공정과 잉크젯 프린팅 공정의 차이에 대해 조사하고 잉크젯 프린팅 공정을 적용하였을 경우 얻어지는 장점을 알아보자.
2. 은(silver) 합성 과정( polyol process) 에 관하여 알아보자.
3. 점도 측정의 원리 (BROOKFIELD)에 대해서 알아보자.
※Reference

본문내용

1. 반도체 제조공정 중 기존의 lithograph 공정과 잉크젯 프린팅 공정의 차이에 대해 조사하고 잉크젯 프린팅 공정을 적용하였을 경우 얻어지는 장점을 알아보자.

일반적으로 Lithography라 함은 Patterning을 하는 공정명칭으로서 Photo 공정과 Etch 공정으로 나눌 수 있다. 그러나 근래에 와서의 Lithography의 의미는 일반적으로 Photo 공정만을 지칭하고 있 있다. 반도체 공정에서의 Lithography는 웨이퍼 위의 다양한 물질에 Circuit Pattern을 형성시키는 것을 목적으로 물질 위에 Resist라는 Polymer 물질을 도포한 후 Pattern의 원판 역할을 하는 Mask를 이용하여 빛을 투과시켜 Resist에 광반응을 일으킨 후 현상하여 Resist Pattern을 형성시키고, 이 Resist를 Barrier로 물질을 Etching하여 최종적으로 원하는 Pattern을 구현하는 기술이다.
포토리소그래피는 한마디로 쉽게 생각하면 판화라고 보면 이해하기 쉽다. 그 과정을 보자면

1. 실리콘 기판 위에 포토 레지스트를 얇게 입힌다. 포토 레지스트(photo resist, PR)는 감광성 고분자로써 양성(positive) PR과 음성(negative) PR로 나뉜다. 양상PR은 빛을 받은 부분만 흐물흐물해져서 쉽게 지워지는 성질을 갖고 음성PR은 반대로 빛을 받은 부분만 더 딱딱해지는 성질을 나타낸다. 각각의 특성에 맞는 PR을 실리콘 기판위에 입힌다.
2. 그 위에 패터닝할 모양의 마스크를 씌우고 자외선을 쏘여줍니다. 이 공정을 통해 PR위에 마스크 모양대로 빛이 쏘
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