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CVD(화학기상증착) 공정

저작시기 2009.01 |등록일 2010.02.06 파워포인트파일MS 파워포인트 (ppt) | 8페이지 | 가격 700원

소개글

CVD(화학기상증착) 공정에 관한 피피티입니다.
영어로 제작되었지만 주석에 한글로 설명들어가있습니다.

목차

Chemical vapor deposition (CVD)
CVD Kinds
Epitaxial growth
Atmospheric pressure CVD (APCVD)
Low Pressure CVD (LPCVD)
Plasma-Enhanced CVD (PECVD)

본문내용

Chemical vapor deposition (CVD)
CVD is a chemical process used to produce high-purity, high-performance solid materials. The process is often used in the semiconductor industry to produce thin films. In a typical CVD process, the wafer (substrate) is exposed to one or more volatile precursors, which react and/or decompose on the substrate surface to produce the desired deposit.

기체상태의 화학물을 분해한 후 화학적 반응을 이용하여 반도체 기판 위에 박막이나 에피층을 형성하는데 이용된다.
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