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TCO에 대한 기초 내용 및 현재의 기술동향, 관련 특허 조사 및 분석, 시장 및 기술동향에 대한 전망

저작시기 2009.12 |등록일 2010.02.06 한글파일한글 (hwp) | 35페이지 | 가격 2,700원

소개글

디스플레이 공학에 관련된 수업 중 `디스플레이 프로젝트`입니다.
최근 화제가 되고 있는 TCO(Transparent Conducting Oxide), 전도성 산화물에 관한 프로젝트 입니다.
평판디스플레이, 및 태양전지 등의 소자에서 투명전극으로 사용되고 있는 물질인
TCO(Transparent Conducting Oxide)에 관한 모든 것을 A TO Z 까지 상세하게 조사하였습니다.

목차

1. 서론 : TCO에 대한 기초 내용 및 현재의 기술동향
1.1 개 요(TCO란?)
1.2 TCO의 원리
1.3 TCO의 종류
1) ITO
2) SnO2
3) ZnO
4) 유기투명전극재료(탄소나노튜브)
5) IZO
1.4 현재의 기술 및 연구 동향 분석
1) ITO 주요기술
- ITO target 합성기술(공정변수에 따른 결정성 Control, 조성비에 따른 물성 변화)
- ITO 증착 기술(Low temperature process, Ion Assisted method)
2) ITO 증착 장비

2. 본론 : 관련 특허 조사 및 분석
2.1 특허 순서
2.2 특허 분석 (총 14개)
- 투명 도전막 및 그의 제조 방법, 및 그 제조에 사용되는 스퍼터링 타겟
-ITO 소결체 및 ITO 스퍼터링 타겟
- 酸化インジウム-酸化セリウム系スパッタリングタ"[ゲット及び透明導電膜及び透明導電
- 膜の製造方法 (산화인듐-산화세륨계 스퍼터링 타겟 및 투명 도전막 및 투명 도전막의 제조 방법)
- ITO粉末の提供法 (ITO 분말의 제조법)
- 高抵抗透明導電膜用スパッタリングターゲット及び高抵抗透明導電膜の製造方法
- (고저항 투명 도전막용 스퍼터링 타겟 및 고저항 투명 도전막의 제조 방법)
- 산화인듐주석 분말 및 그 제조 방법
- ITO film contact structure, TFT substrate and manufacture thereof
- Patterning of indium-tin oxide (ITO) for precision-cutting and aligning a liquid
- crystal display (LCD) panel
- Fabrication method and structure of an ITO anode containing nickel points for an
- OLED to selectively light
- ITO 도전막, 그 증착방법 및 증착 장치
- 저주파 스퍼터링 장치를 이용하여 제조되는 투명 전극용 산화인듐주석 박막 및 그 제조방법
- MOD법에 의한 ITO 투명전도성 박막의 제조
- 화학기상증착법에 의한 ITO박막 제조방법
- 원자층 증착법에 의한 ITO 박막 제조방법 및 인듐 박막 제조방법
- 표면 개질된 인듐 주석 산화물층 및 유기 전계 발광소자
- 산화인듐주석 표면의 CMP를 위한 조성물 및 방법

3. 결론 : 시장 및 기술동향에 대한 전망
3.1 국내외 시장현황 및 분석
3.2 업계 동향 분석 및 기술동향 예측

참고문헌

본문내용

Ⅰ. 서 론
1. 개 요
- 디스플레이는 전달된 시각정보를 인간이 인지할 수 있도록 인터페이스 역할을 하는 제품으로 그동안 브라운관으로 불리는 CRT(Cathode Ray Tube)가 화질과 가격 면에서의 경쟁력을 바탕으로 시장을 주도해 왔다.
그러나 최근 이동성이 중요시되는 정보환경에 대응하여 나타나는 기기의 경박 단소화 추세나 디지털 기술의 진전과 융합에 따라 보편화되는 멀티미디어 환경 등으로 인해 디스플레이에 대한 수요가 변화하고 있으며 PDP의 투명전극 구조 등 투명전극을 도입한 디스플레이가 이용되고 있다.
TCO 란 Transparent Conducting Oxide의 약자로서 전도성 산화물을 말하며 광투과율이 높은 절연 물질의 표면에 형성된 광투과율이 높은 박막 전극으로 평판디스플레이, 및 태양전지 등의 소자에서 투명전극으로 사용되고 있는 물질을 통칭한다. 투명전극재료라고 불리려면 우선 가시광 영역(400nm ~ 700nm)에서 80%정도의 광투과도를 가지며 ~10-3Ω㎝의 높은 전기전도도를 가지는 재료여야 한다. optical bandwidth가 3.5eV 정도이기 때문에 자외선영역은 모두 투과 시키고 적외선영역의 높은 반사율, 적절한 에칭 특성을 가져야 한다.
투명전극재료는 디스플레이 부품소재산업의 하나로 디스플레이 부품소재 산업은 디스플레이 모듈을 생산하는데 필요한 유리 기판 드라이버 IC, 컬러필터 등 부품 및 소재를 생산하여 디스플레이 모듈 생산업체에 공급된다. 때문에 투명전극재료는 디스플레이 패널 생산에 중대한 영향을 미친다.
Fig.1 Ion의 Vacancy가 있는 산화물의 모습 전기적 중성유지를 위해 electron이 Vacancy로 모인다.
2. TCO의 원리
- 일반적으로 좋은 전도체는 불투명하고 반사도가 높으며 열전도도가 높은 특징을 가진다. 하지만 대체적으로 투명한 산화물의 경우 높은 Band gap energy를 가지며 전도도가 좋지 않은 insulator의 특성을 띄고 있다. 하지만 특정 산화물의 경우 다수의 point defect가 형성되어 전도도가 향상되는 경우가 있다.

참고 자료

1. 특허검색, http://search.wips.co.kr/
2. Applied Surface Science 1612000.279–-285
3. Applied Surface Science 1612000.340–-346
4. Applied Surface Science 162–-1632000.492–-498
5. Surface and Coatings Technology 124 (2000) 70–-75
6. Surface and Coatings Technology 1312000.196]200
7. Surface and Coatings Technology 1312000.201]205
8. Surface and Coatings Technology 1312000.247]251
9. Surface and Coatings Technology 1322000.45]48
10. Synthetic Metals 111–-1122000.363–-367
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