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플라즈마 공정

저작시기 2009.10 |등록일 2010.01.16 파워포인트파일MS 파워포인트 (ppt) | 31페이지 | 가격 2,000원

목차

1. 플라즈마의 정의
2. 구분 및 응용 - 산업적 - 고온 플라즈마, 저온 플라즈마
3. 식각과 클리닝
4. PECVD & PAPVD

본문내용

플라즈마의 정의
기체 입자, 즉 기체분자나 원자에 에너지가 가해지면 최외각 전자가 궤도를 이탈함으로써 자유전자가 되어 양전하를 띄게 되며 분자 혹은 원자와 음전하를 갖는 전자가 생성된다. 이러한 양전하의 이온과 전자들이 다수가 모여 전체적으로 전기적인 중성을 갖으며 이렇게 구성된 입자들의 상호작용에 의해서 독특한 빛을 방출하며 입자들의 활발한 운동 때문에 높은 반응 성을 갖게되는데 이러한 상태를 흔히 이온화한 기체 또는 플라즈마라고 부른다.
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플라즈마의 생성/구조
-생성과 구조-
플라즈마가 형성되고 있는 상태는 다음과 같은 3가지 상태가 복합적으로 일어나고 있다.
반발
이온화
여기와
반발
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플라즈마의 특성
전기적 특성
화학적 특성
물리적 특성
자기적 특성
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DC스퍼터링
DC스퍼터링
(D.C Glow Discharge sputtering)
→가장 간단한 스퍼터링 구조로서 전도성 물질의 스퍼터링에 사용된다. 이 구조의 가장 큰 단점으로는 비전도성 물질의 스퍼터링이 불가능하다는 것이지만 가장 일반적으로 손쉽게 사용할 수 있다는 것이 장점이다. 또한 이 장치는 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에는 적합하지 않은데, 특히 타겟 표면에 절연물을 형성함으로써 타겟의 오염을 유발시킬 수 있기 때문이다.
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