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유도 플라즈마를 이용한 UMG 폴리 실리콘 정련에 관한 논문 연구

저작시기 2009.05 |등록일 2009.06.11 파워포인트파일MS 파워포인트 (pptx) | 21페이지 | 가격 3,000원

소개글

유도 플라즈마를 이용한 UMG 폴리 실리콘 정련에 관한 논문 하나를 선정하여
실리콘 제조 공법의 종류와 유도 플라즈마의 원리를 배경지식으로 이해하고
폴리 실리콘을 정련하는 하는데 관한 공부하여 발표했던 자료입니다.

목차

1. Theoretical Background
2. Introduction
3. Process Design
4. Result & Discussion
5. Conclusion

본문내용

산업 프로젝트 소개
태양광 발전 시스템 실용화 가속 기술 개발
태양광 발전 시스템 미래 기술 연구 개발
태양광 발전 시스템 공통 기반 기술 연구 개발
태양광 발전 시스템 기술 연구 개발
(혁신적 태양 전지 국제 연구거점 정비사업)
2. introduction
World Energy Project
신 재생 에너지 발전량 전망
2. introduction
국내 정책 현황
2. introduction
태양광 발전 산업 규모 전망
2. introduction
3. Process Design
10kg
SIO2
Cu
연료분사장치
Process Design
3. Process Design
Only Plasma Used
Silicon Melting
Refilling Step
Fill The Cucible
Using a Reactive Gas
Hydrogen
Si
Process
Discussion
Experimental Study
Discussion
Experimental Study
Discussion
Experimental Study
Discussion
Experimental Study
Discussion
Chemical Result
An Important segregation effect was observed with the metallic pollutants, which were concentrated in the top of the ingot.
Electrical Result
Silicon(Treated for 70min) exhibited 12.4% efficiency.
Cost
The cost of the plasma treatment was estimated to be 21 Euros/kg.
ICP를 이용하여 UMG-Poly Silicon 생성시 지멘스 공법보다 적은 비용과 FBR공법보다 높은 순도를 얻을 수 있음.
ICP를 이용하여 융용시 Boron 휘발에서 Oxygen과 Hydrogen의 의존성에 대한 결과값을 얻을 수 있음.
은 순도를 얻기 위한 여러가지 방법이 연구되어야 한다.

참고 자료

「Refining of metallurgical-grade silicon by inductive plasma」 C. Alemany, C. Trassy,
B. Pateyron, K-I Li, Y. Delannoy.
- Villeurbanne, France Solar Energy Materials & Solar Cells
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