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Evaporator 원리및 설명, 진공의 종류및 응용

저작시기 2009.06 |등록일 2009.06.06 한글파일한컴오피스 (hwp) | 9페이지 | 가격 800원

소개글

진공증착 방법/ thermal evaporator 원리및 응용
진공의 종류및 응용에 대한 설명

목차

1. Thermal Evaporator에 대한 설명 및 원리
※ Evacuation System
펌프의 종류
펌프의 기본 원리
실험 순서
실험 결과
2. 진공의 분류 및 응용분야

본문내용

증착이란 진공 중에서 코팅시키고자 하는 물질을 기화 또는 승화시켜서원자 또는 분자 단위로 기판 표면에 응고되도록 함으로써 피막을 형성시키는 방법으로 성장효율과 피막의 순도를 향상시키기 위해서 대개 진공중에서 이루어진다. 진공증착|작성자 gangnarunet http://blog.naver.com/gangnarunet/40065468688


E-beam/Thermal evaporator는 각종 금속(Au, Al, Ti, Cr, In, Ni)과 유전체(SiO2)의 박막을 기판 위에 증착할 수 있는 장비이다. 진공도는 1.0 ( 10-6 Torr까지 얻을 수 있다. 박막 증착시에는 박막 두께 측정 센서를 통해 박막의 두께를 확인하며 공정을 진행할 수 있다.
박막은 보통 0.5 Aring/sec ~ 1.0 Aring/sec의 증착 속도로 증착을 하며 3, 4 인치 웨이퍼를 비롯하여 여러 가지 시편 위에 박막 증착이 가능하다. 또한 3인치 웨이퍼의 경우 1회에 2장을 동시에 금속 증착을 할 수 있다.
올리고자 하는 금속이 금(Au)인 경우에는 thermal evaporation으로 증착시키고 그 외의 금속은 e-beam evaporation으로 증착시킨다. http://equip.kaist.ac.kr/list/ebte.htm


진공증착은 박막을 만들고자 하는 재료를 열원에 의해 녹이고 이것을 비산시켜 박막을 만드는 공정으로 비교적 간단한 방법으로 박막을 제작할 수 있다. 진공증착을 행할 때에 증착상태를 기술하는데 필요한 기본 공식이 몇 가지 있으며, 이러한 식은 기체분자의 속도 분포가 Maxwell-Boltzmann분포를 지닌다는 가정하에서 대부분의 고전적인 열역학이나 기체 운동론으로부터 도출한다.충남대학교바이오응용화학부고분자공학과http://polymer.cnu.ac.kr/%40ionics/equi._.brd/_1.1/?shell=%2F%40ionics%2Fintro%2Findex.shell


박막 증착 방법은 증착을 일으키는 중요한 원칙에 따라 두 가지로 나누어진다.

Physical Vapor Deposition(PVD): 물리적 기상 증착
Chemical Vapor deposition(CVD): 화학적 기상 증착

PVD방법은 기판위에 박막을 증착하기

참고 자료

Nagamitsu Yoshimura, 『Vacuum Technology』, Springer Berlin Heidelberg(2008)
장황재, 「진공, 진공펌프, 진공증착기」, 2005.
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