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나노 테크놀러지와 나노와이어의 성장법

저작시기 2008.10 |등록일 2008.12.31 한글파일한컴오피스 (hwp) | 13페이지 | 가격 3,000원

소개글

Nano Technology란 무엇인가 알아보고 그 응용 분야와 인간에게 미치는 영향과 함께 NT 기술에서 매우 중요한 소재인 Nano Wire의 합성방법과 그 장단점에 대해 알아본다.

목차

목차

1. 나노 테크놀로지(NT; Nano Technology)
1.1 나노 테크놀로지의 접근
1.2 나노 테크놀로지의 응용

2. 나노와이어의 합성방법
2.1 CVD(화학기상증착; Chemical Vapor Deposition)
2.1.1 CCVD(촉매화학기상증착; Catalytic Chemical Vapor Deposition)
2.1.2 MOCVD(금속-유기물 화학기상증착; Metal-Organic Chemical Vapor
Deposition)

2.2 Reverse Micelle Method(역미셀 법)
2.2.1 Reverse Micelle 법의 소개
2.2.2 Reverse Micelle법에 의한 나노와이어의 합성

2.3 Nano-Imprint Lithography(NIL)를 이용한 수지 와이어 제작

2.4 Template를 이용한 나노와이어 제조

2.5 CNT(Carbon Nano tube) 합성법
2.5.1 Electric Arc Process(아크증착법)
2.5.2 Laser Ablation(레이저 융삭법)

3. 참고문헌

본문내용

1. 나노 테크놀로지(NT; Nano Technology)
현재 NT(Nano Technology)는 국가의 5대 미래 유망 산업중 하나로 IT, BT와 함께 3대 기술로 불리는 기술이다. 나노의 정의는 사전적으로는 10-9m일 뿐이지만 일반적으로 나노미터 스케일에서 물질을 제어, 조작, 가공, 측정하는 기술을 총칭하는 것이라 할 수 있다.

나노 기술을 이용하면 물질을 분자, 원자 수준에서 다루는 것이 가능해 진다. 불과 몇 년 전까지만 하더라도 원자 단위의 제어는 불가능하다 여겨졌으나 이미 그러한 규모의 기술이 상용화 되고 있다. 대표적으로 세계 유수의 반도체 업체들이 벌이고 있는 반도체 고집적 기술의 결쟁을 들 수 있겠다. 나노 기술을 가장 잘 이해할 수 있는 것이 바로 지난 20세기의 기술 발전인데 반도체와 전자공학의 세기라 할 수 있을 정도로 반도체 기술의 발달이 중요한 역할을 해왔다. 너무 빠른 기술 발달로 나노 스케일의 한계가 얼마 남지 않았다는 것은 의심 할 수가 없다.


2. 나노와이어의 합성방법
2.1 CVD(화학기상증착; Chemical Vapor Deposition)
CVD는 화합물 상태의 원료 원소를 촉매를 이용하여 분해시켜 증착시키는 방법이다. 기체상태의 화합물을 반응gas(촉매)와 반응시켜 그 양을 조절 할 수 있다. CVD법은 모든 환경과 조건을 조성후 일괄적으로 진행되는 공정이므로 전체적인 scale의 통제가 쉽지않고 균일한 재현성이 떨어진다는 것이 가장 큰 단점이다.
(이하 생략)

참고 자료

본문에 포함되어 있음.
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