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산화막 측정 실험 (사전 보고서)

저작시기 2004.09 |등록일 2008.04.04 한글파일한글 (hwp) | 15페이지 | 가격 1,000원

소개글

1. A+받은 리포트입니다.
2. 진공 및 박막 실험 수업중에 보고서로 제출한 내용입니다.
3. 체계적으로 구성되어 있습니다. (목차 참고)

목차

■ 실험 목적

■ 실험 준비물
1. Furnace
① 장치 설명
② furnace 의 원리
2. 측정 장치
① SEM
② Ellipsometer
③ 자외선 방식 분광 광도계 (UV Visual Spectrophotometer)

■ 이론

■ 실험 방법

■ 보충 설명
1. UV Visual Spectrophotometer Theory
2. UV-Vis 광선과 물질의 상호 작용
3. 기기 구성

본문내용

CVD 장비중의 하나인 furnace 의 사용법을 익히고 실리콘 웨이퍼에 인공 산화막을 입히는 실험을 통해서 이 장비의 활용용도를 알아 본다. 또한 산화막의 두께를 측정하는 장치에 대해 알아보고 사용법을 익힌다.
Furnace

① 장치 설명
1) 장비명 : jisico tube furnance
2) 사용온도 : 최고 온도 : 1200도
평상시 : 1000~1100도
3) heating source : Kanthal AF (Fe-Cr 합금, wire,strip 형태, 최고 상용온도 : 1400도, )
4) 튜브 : quartz 관, alumina관, mulite관
(본 실험에서는 quartz 관을 사용)
5) 단열제 : 세라믹
6) heating controller : PID(Proportional-Integral-Derivative) controller
( heating range : 5~120도)
- 설정량으로부터 편차를 없애는 방향으로 제어량을 변화시키는 역할을 한다. 따라서 비례 동작 뿐만아니라 미분동작과 적분동작이 추가된 컨트롤러 이다. 비례 동작, 적분 동작, 미분 동작을 각각 P 동작, I 동작, D 동작이라고하고 세 기능을 다 발휘하는 것을 PID controller 라고 한다. PID 컨트롤러는 항상 PID 의 모든 기능을 반드시 작용시켜야 하는 것은 아니고 상황에 따라서 P 동작과 I 동작의 조합, 또는 P 동작과 D 동작의 조합으로 이용되도록 바꿀 수 있다.
on-off 스위치는 설정온도를 잡기 위해서 0/1 이라는 두 종류의 상태만을 생각 하지만 이 PID controller는 조건에 따라서 0과 1 사이의 어떠한 적절한 값을 가지게 된다. 따라서 이 PID는 on/off 보다 더 작은 편차를 가지면서 설정값까지 도달하게 된다.

PID controller 의 컨트롤 ]
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