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평가점수A

MA6∥ Aligner

저작시기 2006.12 |등록일 2008.03.29 한글파일한글 (hwp) | 3페이지 | 가격 1,500원

소개글

MA6∥ Aligner 사용법

목차

없음

본문내용

6) MASK와 Wafer Align
▷ Top Side Alignment (TSA) 현미경을 사용한 Align.
① MASK의 패턴을 찾아 마스크를 정렬한다.
② 현미경은 양쪽상이 Split되어 서로 다른 부분을 보도록 해야 한다. 이는 정렬시 Wafer가 원주방향으로 회전되어 생기는 정렬 오차를 막기 위함이다.
③ 현미경의 상을 Split 시키는 것은 대물렌즈의 부위 위치 조절 나사 위의 작은 나사이다. 양쪽 나사를 적절히 조작하여 한 쪽 상만을 관찰할 수 있고 양쪽 상 모두를 관찰할 수 있다.
④ 이 때, 양쪽으로 보이는 정렬키 패턴은 서로 대칭적이어야 한다.
⑤ 마스크 정렬 후 Wafer를 움직여 정렬키를 찾는다. 마스크 Chuck을 움직여 찾게 되는데, Chuck 주변의 조절장치를 움직여 X (Chuck의 오른쪽), Y(왼쪽), θ 방향으로 각각 조절한다.
▷ Bottom Side Alignment (BSA) 현미경을 사용한 Align.
① CCD camera로부터 나오는 상을 모니터로 연결한다. BSA MICROSCOPE 키를 누른 후 BSA/IR ILLUMINATION Button을 눌러 현미경의 빛의 세기를 조절한다.
③ TSA 때와 마찬가지로 마스크를 정렬한다.
④ X, Y 방향키를 사용하여 마스크의 Fiducials를 맞춘다. BOTH 키를 누르면, 두개의 상이 동시에 그리고 RIGHT 키와 LEFT 키를 누르면 각각 대응하는 상이 움직인다.
⑤ 마스크 정렬이 끝나면 GRAP IMAGE 키를 눌러 상을 모니터로 capture한다.
⑥ 정렬을 위해 패턴이 있는 면이 CCD camera가 있는 방향으로 로딩하고 기판의 Fiducials을 모니터에 저장된 Mask Fiducials에 잘 맞춘다.
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