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TFT_LCD 공정과 원리

저작시기 2007.09 |등록일 2007.12.09 파워포인트파일MS 파워포인트 (ppt) | 38페이지 | 가격 1,500원

소개글

TFT LCD 제작 공정과 AMLCD의 TFT 동작 원리를 설명하였다.
발표자료로 활용할 수 있도록 발표자를 위하여 자세히 슬라이드 노트를 기록하였다.
TFT LCD 공정, 용어의 정의
TFT LCD 원리
a-Si:H
TFT LCD 제조 설비; AKT, TEL 장비
MOSFET 작동 원리 설명 슬라이드

목차

TFT-LCD Mfg. Process
AKT PECVD System for a-Si TFT-LCD
TEL Impressio – Etch / Ash
TFT LCD Flat Panel Display Manufacturing Process
What is a TFT?

본문내용

AKT PECVD System for a-Si TFT-LCD
As the market leader in flat panel display PECVD technology, AKT has ten major processing platforms from the AKT-1600 PECVD for 360mm x 465mm substrates to the AKT-55K PECVD for 2200mm x 2500mm class substrates, which are used to make TFT-LCD displays for flat panel televisions. AKT`s PECVD systems offer processes for multiple applications, including both doped and undoped amorphous silicon (a-Si), silicon oxide, silicon oxynitride (SiON), silicon nitride, and in-situ multi-layer depositions. Systems equipped with Remote Plasma Source Clean technology enable highly repeatable deposition for over one month of full production without wet cleaning.  AKT-55K PECVD is equipped with its innovative AKT-APXL PECVD process chambers which enable excellent film uniformity and property for large size deposition

TEL Impressio – Etch / Ash
Impressio는, Flat Panel Display(FPD)제조 공정에 있어서 제 7세대 기판 대응의 FPD Plasma Etching/ Ashing장비로, Process chamber내의 Plasma 밀도 균일화와 Etching의 고 효율화가 가능하도록 설계 개발 되어 있습니다. 대 유량 Process Gas의 공급 System을 장착한다면, 동시에 대유량 배기가 가능하도록 하나의 Chamber에 대하여 6기의 Turbo Pump를 표준 탑재하고 있습니다.
제 5,제6세대의 장비와 동등한 Through-put을 실현.
반송계는, 2를 넘는 Glass기판의 처짐을 최소화 하도록 기판의 Support위치를 Simulation하여 최적화.
6기의 Turbo-Pump를 표준 탑재.
Plasma 밀도의 균일화.

참고 자료

Metal-Oxide-Semiconductor (MOS) Field-Effect-Transistor (FET)
http://en.wikipedia.org/wiki/MOSFET
TFT Plasma processing in the fabrication of amorphous silicon thin-film-transistor arrays
http://www.research.ibm.com/journal/rd/431/kuo.html
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