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리소그래피

저작시기 2007.01 |등록일 2007.05.30 파워포인트파일MS 파워포인트 (ppt) | 19페이지 | 가격 1,500원

소개글

리소그래피공정에 대한 ppt 설명 자료입니다.

목차

1.Lithography
2.Photo Lithography
3.Light Source
4.레이저를 광원으로 사용하기 위한 조건
5.Etch Lithography

본문내용

Lithography
Lithography
리소그래피(Lithography)의 정의
- 집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로
촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술
이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로,처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자 빔을
사용해 더 미세한 패턴을 만듦
Lithography
* Photoresist : 마스크를 통해 빛을 통과시켜 그 형태를
마스크로부터 감광제
* Etching : 현상된 감광막 패턴을 이용하여 웨이퍼 상의
불필요한 부분을 제거하는 공정
감광막 프로세스
Photoresist process
식각 프로세스
Etching process

Lithography
감광막 프로세스
Photoresist process
감광막 도포 (PR coating)
연화 건조 (soft bake)
마스크 정렬 (mask alignment)
노광 (exposure)
현상 (develop)
경화 건조 (hard bake)
식각 프로세스
Etching process
패턴 식각 (pattern etching)
감광막 제거 (PR strip)
Next process
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