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나노 패터닝 기술

저작시기 2007.01 |등록일 2007.03.07 한글파일한컴오피스 (hwp) | 4페이지 | 가격 500원

소개글

나노과학개론 레폿입니다.
과제명은 대표적인 나노임프린팅 기술에 대하여 조사하여라 였습니다.
각각의 기술에 대한 그림도 포함되어 있습니다.

목차

1.nano imprint 기술
2.ultraviolet nano imprint 기술
3.잉크젯프린터의 nano pattering 기술

본문내용

Ultraviolet nanoimprint
■ 가열방식의 나노임프린트 리소그래피의 문제점과 대안
△ 다층(multi-layer)작업시 열변형에 의해 다층정렬이어렵다는 점과, 점도가 큰 레지스트(resist)를 임프린트하기 위해서는 고압(30 bar 정도)이 필요하기 때문에 하단에 제작된 구조물이손상될 수 있음
△ NIL에서 일반적으로 사용되는 불투명한 스탬프(stamp)는 다층화 정렬작업에 불리하게 작용
△ 상온저압 프린팅 공정기술인 UV나노임프린트 리소그래피(ultraviolet nanoimprint lithography, UV-NIL)를 대안으로 제시

■ UV-NIL의 특징
△ 이 공정기술은 UV 경화소재를사용하여 상온저압으로 나노구조물을 제작할 수 있는 기법으로, 가열방식 NIL에서는 일반적으로 실리콘스탬프가 사용되는데 반하여, UV 투과성 재질인 수정(quartz), 유리(glass) 등으로 제작된 스탬프가 사용된다는 점이 특징이다.
△ UV 투과성 스탬프로 가압한 상태에서 UV를 조사하여 경화시킨 후, 이방성 에칭과정과 lift-off 과정을거쳐 나노패턴을 기판 위에 전사하는 방식이다

참고 자료

나노 패터닝을 이용한 초고밀도 정보저장매체의 성형
대한전기학회 | 강신일 | 2003

나노기술 개발동향 : 나노 패터닝의 연구개발 동향 및 정보분석
한국공업화학회 | 이일형, 소대섭, 최붕기, 정희준 | 2006 |
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