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열증착을 이용한 나노박막제조

저작시기 2006.01 |등록일 2006.12.26 | 최종수정일 2015.01.16 한글파일한글 (hwp) | 12페이지 | 가격 5,000원

소개글

본 실험은Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는 것이다.

목차

이론
박막제조공정(Thin film process)의 개요
박막제조공정(Thin film process)

실험방법․
◎ 기판 세정
◎ 박막증착
◎ 장비 ON 순서
◎ 장비 OFF 순서

결과 및 토의

결론
참고문헌

본문내용

본 실험은Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는 것이다.
오늘날의 고부가가치형 재료 제조업에 있어 표면 개질이나 박막 코팅을 이용한 제조 기술은 제품의 특성 향상과 부가가치의 창조에 있어 매우 중요한 역할을 담당하고 있다. 박막제조기술은 산업의 쌀이라 일컫는 반도체 직접회로(IC), TFT-LCD를 대표로 하는 평판형 디스플레이(Flat Panel Display, FPD), 차세대 2차 전지 등 정보전자산업에 있어 핵심 제조 기술로 자리잡고 있으며, 기타 여러 제조업 분야에서도 그 응용이 지속적으로 증가하고 있는 기술이다.
Thin film process는 오랜 기간 기술의 발전과 더불어 개별 공정 또한 상당히 다양화 되었다.
Thin film process란 thin film deposition(증착)과 photolithography(사진식각) 기술을 이용하여 원하는 형상의 회로를 형성하는 일련의 과정을 말한다. Thin film deposition이라 함은 증착하고자 하는 물질(metal, dielectric, insulator, polymer 등)을 수 십 ~ 수 천 Å(1 Å = 10-4 micron) 두께로 특정 기판 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 thermal evaporation(열증착), e-beam evaporation(e-beam 증착), sputtering, CVD(화학증착), MOCVD, MBE 등이 있다.
evaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation, 그리고 이 둘을 조합하는 방법이 있다. Evaporation 방법은 오래된 film deposition 방법으로서 공정이 단순하고 증착 속도가 빠르며 장비의 가격이 저렴한 장점이 있는 반면 film quality가 나쁜 단점이 있다.
이러한 이론을 바탕으로 실험하여 기판에 증착된 박막의 표면을 확인 하였다.
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