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평가점수A

디스플레이 공정 레포트,

저작시기 2006.01 |등록일 2006.12.22 한글파일한글 (hwp) | 12페이지 | 가격 1,000원

소개글

후회안하실꺼예요.
저도 점수 잘받았거든요.ㅋ

목차

1. 서론 (Introduction)
2. 실험 방법 (Experimental Procedure)
(1) 1주차 : ZnO Solution 제조
(2) 2주차 : 박막 coating
(3) 3주차 : Firing

본문내용

1. 서론 (Introduction)
최근 LCD, PDP, 유기EL 등 각종 평판 디스플레이의 발달에 따라 투명전극용 재료에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 우수한 투명전도막은 낮은 비저항과 가시광선 영역에서의 높은 광투과율, 소자 제조공정 중 열에 의한 특성변화가 적어야 하는 등의 조건을 가져야 한다. 현재, 투명전도막으로 가장 널리 쓰이는 재료는 ITO(Indium Tin Oxide)로서 전기적, 광학적 특성이 매우 우수하나 indium의 생산단가가 높고 플라즈마 분위기에서 불안정한 문제점이 발생한다. 이에 반해 ZnO는 우수한 전기적, 광학적 특성을 가지면서도 원료물질의 생산단가가 낮고 플라즈마에 대한 우수한 내구성을 가지며, 저온공정을 실현할 수 있는 장점을 가진다. 그러나 불순물이 첨가되지 않은 ZnO 박막은 대기 중에 장시간 노출되었을 경우 산소의 영향으로 Zn과 O의 화학양론비 변화에 따라 전기적 성질의 변화가 발생하고, 고온 분위기에서 안정하지 못하게 되어 아직 완전한 상용화를 이루지 못하고 있는 실정이다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 Al, In, Ga, B 등의 dopant를 사용하여 전기전도도를 높이고 대기 중에서도 안정한 ZnO 박막을 제조하기 위한 연구가 진행되고 있으며, 특히 Al dopant 첨가량에 따른 비저항 변화에 있어서 1~2at%를 첨가한 박막이 우수한 비저항 특성을 보인다고 보고된 바 있다.

참고 자료

· 졸겔법에 의해 제조된 Al-doped ZnO 투명전도막의 제조 및 특성
- 현승민 외 2명. 1995
· 졸겔법에 의해 제조된 Al-doped ZnO박막의 후열처리 온도에 따른 전기 및 광학적 특성
- 고석배 외 6명. 2004
· Effect of post heat treatment on the electrical and optical properties of ZnO Al thin films - V. Musat 외 3명. 2005
· Effect of Li and Mg doping on microstructure and properties of sol-gel ZnO thin films - Shinobu Fujihara 외 2명. 2000
· Mechanism of carrier transport in aluminum doped zinc oxide
- Radhouane Bel Hadj Tahar. 2002
· 예열 온도 변화에 따른 Sol-Gel 법에 의해 제작된 ZnO박막의 물리적 특성 연구
- 김익주 외 6명. 2003
· 도핑 및 합금에 의한 발광소자용 ZnO 박막 제작 및 특성
- 김재원. 2004
· Optical properties of laser ablated ZnO nanostructures and thin films for optoelectronic device applications - 강정석. 2003
· Optics(4th edition). Hecht. 2001
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