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[공학]반도체, LED용 특수재료가스 산업 현황

저작시기 2006.08 |등록일 2006.08.03 워드파일MS 워드 (doc) | 9페이지 | 가격 5,000원

소개글

반도체, LED의 박막증착에 사용되는 CVD 재료와 공정에 사용되는 특수가스와 업체 현황을 조사함.

목차

1.산업 개황
2.재료비 비중 및 시장 규모
3.반도체의 특수가스
4.LED 의 특수가스 : 암모니아(NH3), TMG(트리메틸갈륨 (CH3)3Ga)
5.국내 현황 및 기업

본문내용

1. 산업 개황
- 특수가스란 : 산소(O2), 질소(N2), 아르곤(Ar), 탄산(CO2), 수소(H2) 등 보통의 산업용가스와 달리 특수한 목적으로 사용되는 가스를 말함.
- 특수가스의 시장 특성 및 현황
① 일반 제조업종에서 사용처가 확장되고 있으며, 새로운 산업, 새로운 공정이 생길 때마다 새로운 가스의 개발이 요구됨. 특히, 반도체, TFT-LCD 등의 특수가스 시장은 성장성이 뛰어남.
② 혼합비율에 따라 거의 무한대에 가까운 종이 있으며, 혼합가스를 제외한 표준화된 제품만 2 백 여종에 이름. 대부분의 반도체용 특수가스는 수요가 많으며, 대량생산이 가능하면서도 고가를 형성함.
- 국내기업 : 90년 중반까지 거의 수입에 의존해 왔으며, 90년대말 이후 국내 업체들이 자체 제조.정제 능력을 확충하고 소디프신소재, 아토 등이 신규진입하게 됨.
- 요구사항 : 고순도화를 위한 정제기술과 분석기술 등이 필요함. 또한 안정성이 더욱 요구됨. 따라서, 가스메이커로서는 분석, 정제, 생산라인, 용기의 일괄된 품질관리가 필수적임.

-암모니아(NH3)와 아산화질소(N2O) : 실리콘반도체 CVD프로세스있어 절연막 형성재료로서 30년 전부터 사용되고 있음. 또한 DRAM, 시스템LSI, 화합물반도체, 액정 등 지속적으로 사용되고 있음. 이외에 모노실란(SiH4)과 삼불화질소(NF3)가 성장세임.
-이에 반해, 차세대 반도체용 가스로 부상하고 있는 트리메틸실란과 핵사플오로-1,3부타디엔(C4F6) 등이 기대만큼 성장하지 못함.

-화합물반도체( GaN(질화갈륨)) 의 핵심물질로 고순도 암모니아와 TMG 가 있음.
-특히 고순도 암모니아는 실리콘반도체의 질화막 재료에서 고휘도 청색LED용 갈륨나이트라이드(GaN) 용 MOCVD재료로 사용되면서 폭발적으로 사용량이 증가하고 있음.
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