검색어 입력폼

[재료공학]Soft Lithography의 이해 및 응용

저작시기 2006.04 |등록일 2006.07.30 한글파일한글 (hwp) | 3페이지 | 가격 1,300원

소개글

알찬 자료!!

목차

1. Soft Lithography
**장단점
2. Nano imprint Lithography & Soft imprint Lithography

본문내용

1. Soft Lithography
그림 1. Microcontact printing 공정도Soft Lithography는 soft material Ink로 회로 패턴을 그리는 방법으로, Micro contact printing, Nano imprinting lithography, Dip Pen lithography등이 방법으로 있다. Micro contact Printing은 마치 도장에 잉크를 묻혀 기판에 찍어내는 것과 유사한 공정이다. Micro contact Printing의 기본 공정은 위와 같은 방식으로 원형 표면의 micro pattern 형상과 동일한 유연성 mold를 제작하고 이 PDMS mold 표면에 SAM(Self-assembled monolayer, 자기 조립 단층) 유기물을 흡착시킨 후 기판에 접촉하여 PDMS mold에 부착되어 있는 유기박막을 고체 표면과 화학 반응을 통하여 기판에 전사(transfer)시키는 것이다. 일반적으로 Micro contact Printing의 기판으로는 금이나 은이 주로 사용되고 PDMS mold도 판형과 롤러형의 두가지가 사용된다.

2. Nano imprint Lithography & Soft imprint Lithography

Nano imprint Lithography는 1994년 프린스턴 대학의 Chou group이 개발한 것으로, Nano scale의 초미세 pattern의 전자회로배선을 형성시킨 기술이다. 기술적으로는 매우 단순한데, 요철을 만드는 방법과 유사한 방법으로, 기판위에 Nano scale의 주조를 가진 resistor(stamp, 주형)를 얹고 가열하여 녹인다. 이런 후, resistor 부분을 반응성 Ion Etching법(RIE)으로 제거하고, 기판전체에 금속 증착을 하여, 금속배선을 제작하는 방법을 말한다.
Nano imprint Lithography는 bottom-up방법 중 Input Lithography의 한 갈래이다. 이 기술은, 불가능했던 submicron 정도의 미세배선을, 단순한 방법과 저비용으로 가능하게 할 수 있는, 초미세(10nm 선폭)patterning의 break through를 가능하게 할 lithography가 도래할 것으로 주목 되고 있다. Chou Group은 단시간(250ns이하)동안 Laser를 조사하여, Nano scale pattern을 새길 수 있는, LADI(Laser-Assisted Direct Imprinting)를 새로이 개발하였다. 이 방법은, 실리콘 석영 Nano imprint Lithography(Silicon-Quartz Nano imprinting)기법으로, 실리콘 기판 위에 Laser pulse light를 표면에 근접시켜 조사하여 용융시키면, 석영에 패턴을 새기는 방법이다. 이를 겹치게 하려면, Laser light를 석영에는 XeCl 애칭물질을 사용하여 흡수시키고, 실리콘에 흡수시킨다.
다운로드 맨위로