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[재료공학실험]리쏘그래피 (lithography)

저작시기 2006.03 |등록일 2006.05.24 워드파일MS 워드 (doc) | 4페이지 | 가격 500원

소개글

재료공학 실험3의 lithography실험입니다

목차

1. Soft nano imprint lithography 기술의 장, 단점
2. soft nano imprint lithography 공정시 유의해야 할 점

본문내용

Soft nano imprint lithography 기술의 장, 단점

Soft lithography는 고분자 스탬프 표면에 있는 패턴 형상을 기판에 전사하는 모든 방법을 통칭하는 기술이다. 그 종류에는 여러가지가 있는데 그중 soft nano imprint lithography는 기존의 nano imprint lithography에서 문제되었던 고가의 si, quartz stamp의 열화를 해결하기 위하여 제안된 기술이다. 손쉽게 복제가 가능한 고분자 스탬프를 마스터스탬프로부터 복제하고 nano imprint lithography 공정에 사용함으로써 마스터 스탬프의 열화를 방지하는 기술이다. S-NIL은 마스터 스탬프의 degrading을 방지할 수 있음은 물론, 비형면에 패턴 형성이 가능한 것과 같은 다양한 장점을 가지고 있으나 고압 공정시에 패턴형상이 변하고 alignment가 어려운 등의 앞으로 해결해야 할 여러가지 단점도 가지고 있다
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