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[재료공학] 탄소강의 열처리에 따른 미세조직의 변화

저작시기 2005.02 |등록일 2005.05.15 한글파일한컴오피스 (hwp) | 8페이지 | 가격 2,500원

소개글

템퍼링, 퀜칭...등의 조건에 따른 온도변화에 수반되는 미세조직의 관찰이며 에칭, 시편의 광학현미경 사진들도 수록되어있습니다. 그냥 내셔도 무방합니다. 시험 대체레포트여서 심혈을 기울여 썼습니다.

목차

1. 실험목적
2. 서론
3. 실험방법
4. 실험 결과 및 고찰
5. 결론

본문내용

1. 실험목적
템퍼링, 퀜칭...등의 조건에 따른 온도변화에 수반되는 미세조직의 관찰
1) 시편의 제조
같은 크기의 탄소강 시편을 6개 준비한다.
2) 각 시편별 열처리 방법
⑴번시편 : 800℃로 4시간 가열 후 공기 중에서 공냉 한다.
⑵번시편 : 800℃로 4시간 가열 후 도가니 내에서 로냉 한다.
⑶번시편 : 800℃로 4시간 가열 후 찬물로 수냉 한다.
⑷번시편 : 800℃로 4시간 가열 후 찬물로 수냉 후 다시 도가니로에 넣고 350℃로 4시간 재가열 후 다시 찬물에 넣고 수냉 한다.
⑸번시편 : 800℃로 4시간 가열 후 찬물로 수냉 후 다시 도가니로에 넣고 450℃로 4시간 재 가열 후 다시 찬물에 넣고 수냉 한다.
⑹번시편 : 800℃로 4시간 가열 후 찬물로 수냉 후 다시 도가니로에 넣고 550℃로 4시간 재 가열 후 다시 찬물에 넣고 수냉 한다.
3) 시편의 연마(Polishing)
여기서 폴리싱(Polishing)은 사포로 실시하는데 다음과 같은 순으로 실시한다.
100cW(1in X 1in안에 있는 입자의 수) ☞ 400cW ☞ 800cW ☞ 1200cW ☞ 2000cW
순으로 매끄럽고 라운딩이 되지 않게 편평한 경면을 만든다.
cf> 만약 라운딩 될 경우 광학 금속현미경의 초점심도 차이로 다른 부분이 흐릿하게 나오는 경우가 있기 때문에 편평하게 폴리싱을 해야 한다.
4) 시편의 정마(Buffing)
정마기를 이용하여 1㎛정도로 거울면(경면)이 되도록 매끄럽게 정마한다.
5) 시편의 에칭(Etching)
시편들을 5%의 HNO₃(5% 질산수용액)에 약 10초 동안 에칭한다.
이때 시편에 기포가 발생할 수 있으므로 흔들어 기포를 없앤다.
다음으로 바로 흐르는 물에 씻어낸다.
6) 각 시편에 따른 조직의 관찰
광학 현미경으로 다른 열처리를 한 시편에 따른 조직을 관찰하여 사진을 찍는다.
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