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[고분자] PMMA (photoresist)

저작시기 2004.11 |등록일 2005.04.01 한글파일한컴오피스 (hwp) | 1페이지 | 무료

소개글

반도체 공정의 photolithography에 사용되는 PMMA라는 고분자에 대한 자료입니다.

목차

1. PMMA의 성질
2. Radiation source for exposure

본문내용

1. PMMA의 성질

PMMA(Polymethyl methacrylate)는 다양한 microelectronic application에 사용되는 고분자 코팅 물질이다. 이러한 application중에는 radiation-sensitive patterning layer와 temporary protective 또는 structural layer로 사용되는 것도 있다. PMMA의 가장 일반적인 용도는 고해상도(형상의 크기가 100nm 이하)의 positive resist(direct write application이다.
이러한 상황에서 image는 electronic beam이나 x-ray exposure 등에 의해 고분자의 backbone이 절단되어 형성된다. 결과적으로 development process는 positive image를 남긴 영역에서 저분자량의 PMMA를 선택적으로 용해시킨다. 저분자량의 PMMA는 고분자량의 PMMA보다 용액에 빨리 용해된다. 따라서 다른 분자량을 가지는 PMMA resist들을 주의 깊게 선택, 적층함으로써 다양한 형상의 resist profile을 만들 수 있다. 이러한 기술을 사용하는 가장 일반적인 두 가지 application은 T-gate fabrication과 metal lift-off이다.

참고 자료

1. http://www.microchem.com/products/pdf/PMMA_Data_Sheet.pdf
2. http://www.brewerscience.com/sm_pdfs/sm_pmma_data.pdf
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