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리소그래피

저작시기 2004.06 |등록일 2004.12.20 | 최종수정일 2015.12.03 한글파일한컴오피스 (hwp) | 3페이지 | 가격 2,000원

소개글

리소그래피에 대하여 잘정리된 레포트

목차

1.리소그래피
1) EUV 리소 그래피
2) E-Beam 리소그래피 (전자빔 리소그래피)

본문내용

◈리소그래피◈
- 리소그래피를 정의하기 전에 먼저 알아두어야 할 것은 나노과학, 나노기술이란 무엇인가 하는 것이다. 일반적으로 나노과학, 나노기술이란 다루는 대상의 크기가 나노영역의 크기를 가질 때의 과학, 기술을 말한다. 보통 다루는 대상의 길이가 100nm이하의 크기를 가지면 나노기술이라고 말하는데 여기서 나노기술이 꼭 아주 작은 입자만을 다루는 것은 아니다. 즉 두께 100나노미터 이하의 박막기술도 나노기술의 범주에 들어간다고 볼 수 있다.이 말은 결국 다루는 대상의 크기가 나노영역이면 무엇이든지 나노기술이 될 수 있다는 뜻이다. 나노 영역을 간단히 열거해보자면, 나노물리, 나노화학, 나노생물, 나노전자공학, 나노기계, 나노재료, 나노생명공학, 나노의학 등등 거의 모든 이공계 학과가 나노기술과 관련이 있다고 봐도 될 정도다. 이 영역 중에 나노 재료를 생각해 보면 반도체를 예로 들 수 있다. 반도체를 만들 때에 중요한 것이 회로를 설계하는 것과 설계된 회로를 구현하는 것인데 얼마나 회로를 작고 정확하게 그려 낼 수 있는가 하는 것이 반도체의 성능과 직결된다고 볼 수 있다. 반도체 공정 기술의 중심에는 반도체 집적도 향상을 좌우하는 리소 그래피 기술이 있다. 포토 리소그래피 기술은 대표적인 탑다운 방식인데 여기서 탑다운 방식이란, 큰 물체를 점점 잘개 쪼개나가는 방식을 말한다. 현재의 리소그래피 기술은 거의 한계에 다가서 있다고 생각되어지고 있어서 새로운 방식의 패터닝 방식이 요구되고 있다고 한다.
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