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[박막공학과 성분분석] 성분분석법 및 박막증착법

저작시기 2004.11 |등록일 2004.12.16 한글파일한컴오피스 (hwp) | 21페이지 | 가격 1,200원

소개글

많은 도움이 되었으면 합니다.

목차

전자선분석
X-선 분석
이온분석
하전입자 분석
PVD
CVD

본문내용

■ 개 요

● 재료물성의 요인해석을 할 때에 이용되는 분석에는 일반적으로 내부 물성분석 외에 표면층과 국재화한 미소부가 대상이 되고, 국소분석이 중요시된다.

● 전자 및 이온, 광학, 진공, 레이저, 반도체 및 컴퓨터의 각종 기술이 최근에 눈부신 발전에 따라 이 15년 정도 사이에 많은 물리 분석법이 발전하고 국소분석의 가능한 범위가 확대

● 분석법은 한마디로 말하면, 전자, 이온 또는 광자빔을 재료 중에 분석하려고 하는 영역에 조사하고 이러한 빔과 물질과의 사이에 어떠한 상호작용을 일으킨 결과로서 방출되는 에너지를 검출

● 기업에서 일상적인 분석업무에 사용

○ 투과전자현미경, 주사전자현미경, X-선 마이크로분석기, ESCA

● 응용면에 걸친 소프트개발을 하기위해 필요한 요소에 이용

○ 이온마이크로 분석기, 오제이(Auger) 전자분광, 러더포드 후방산란 분광

■ Thin Film Process?
Thin film process란 thin film deposition(증착), photolithography(사진식각), plating(도금) 및 etching(에칭) 기술을 이용하여 원하는 형상의 회로를 형성하는 일련의 과정을 말한다.

참고 자료

<표면공학(2003), 김선규, 斗陽社> <표면·국소분석의 실제(1993), 黑崎和夫 , 自由아카데미>
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