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[재료공학] 표면분석의 방법과 과정

등록일 2004.06.27 한글파일한컴오피스 (hwp) | 13페이지 | 가격 1,400원

소개글

표면분석에 있어서 가장 기본이 되는 XPS와 AES에 대한 기본적인 이론들과 응용에 대해 서술했습니다. 어떤 원리로 표면분석을 하는지에 대한 이론과 실제 분석하는 과정에 대해 그림과 함께 상세히 적어놓았습니다. 아마 이 자료만 보시면 XPS와 AES에 관한 전반적인 감은 잡으실 수 있을거라 생각됩니다.

목차

없음

본문내용

3-5. Primary structures in XPS
XPS를 찍으면 다음과 같은 spectrum을 얻을 수 있다. Si위에 TiN를 100Å정도 키운 것이다. 이런 정보가 없을 때는 여기에 뭐가 있는지 알아내기 위해 scanning해서 survey를 얻는다. 0~1100 까지 나오는 전자를 검출해서 그 Intensity를 찍으면 많은 peak가 나오는데 위치를 보고 무슨 peak인지 알아내는 것이다. 이 spectrum은 Mg Ka로 찍은 것이고 BE가 1253이상이 되는 전자는 photon보다 구속력이 크기 때문에 나올 수가 없기 때문에 1253 바로 직전인 1100 까지만 검출하는 것이다. 여기서 Auger 전자도 검출됨을 알 수 있는데 이는 x-ray에 의해서도 Auger 전자가 나올 수 있음을 의미한다. 이를 "X-ray induced Auger" 라 한다. Ti peak을 확대해서 보면 peak이 두 개가 나오는데 이것은 두 개의 다른 종류가 아닌 Spin orbit splitting에 의한 것이다. 전자는 쌍을 이루고 있는데 photon을 쏴주게 되면 거기서 전자 하나가 떨어져 나가게 된다. 따라서 남아있는 전자 하나는 unfaired되는데 이 전자의 스핀 양자수가 s이고 그 전자가 있는 오비탈의 양자수를 l이라 한다면 그 오비탈과의 interaction에 의해 'LS 커플링‘ 이 일어난다. 따라서 하나는 up으로 일어나고 하나는 down이므로 peak이 두 개가 나오게 되는 것이다. 또한 Spin orbit splitting에 의한 면적비를 계산하여 어떤 peak인지 구분할 수 있기도 하다.

참고 자료

이승우, 이치한 ,「분자가 만드는 나노의 불가사의」, 전파과학사, 2002.
이인식,「나노기술이 미래를 바꾼다」, 김영사, 2002.
주승기,「나노테크놀로지」, 서울대학교 출판부, 2002.
D.Briggs, 「 Surface analysis of polymers by XPS and static SIMS」,New York: Cambridge University Press, 1998.
D.J. O'Connor, B.A. Sexton, R.St.C. Smart , 「Surface analysis methods in materials science」, Berlin ; New York: Springer, 2003.
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