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리소그래피

등록일 2004.06.01 한글파일한글 (hwp) | 2페이지 | 가격 500원

목차

1.리소그래피란?
2.응용분야

본문내용

2. 응용분야

미세 가공 기술 개발의 선두에 있는 DRAM 기술에 있어서 리소그래피 기술은 항상 전체 기술의 개발을 좌우하는 중요한 요인이 되어 왔다. 현재 리소그래피 기술에 있어서 주된 관심사는 광학 장비의 사용 한계에 대한 것이다. 우선 248nm의 파장을 가지는 KrF 장비의 한계는 어디까지인가 하는 것이다.
최소 선폭 0.15㎛의 형성은 이미 가능하다는 것이 보고되어 있고, 0.13㎛까지는 적용 가능할 것으로 판단되고 있다. 193nm의 파장을 가지는 ArF 장비는 0.13㎛부터 등장해서 0.10㎛ 기술에서부터 주된 리소그래피 장비가 될 전망이다. 비광학 장비의 등장은 아직 풀어야 할 과제가 많은 관계로 실용화는 아직 전망이 이르다. 광학 장비의 축적된 경험 등에 의해 파장이 더욱 줄어든 광학 장비의 개발이 비광학 장비에 비해 선호될 가능성이 있는데, 157nm의 F2[3] 및 126nm의 Ar[4] 장비가 주목받고 있다.
Giga Bit 시대의 리소그래피 기술은 장비나 마스크 자체만의 기술이 아닌 집적 공정 전반의 기술적 검토를 필요로 하고 있다.
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