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PVD, CVD 그리고 Nucleation

등록일 2004.05.23 한글파일한글 (hwp) | 9페이지 | 가격 1,000원

소개글

PVD, CVD 그리고 Nucleation에 대해 조사한 자료입니다. 다양한 그림과 함께 자세히 정리했습니다.

목차

CVD(chemical vapor deposition)
1. CVD의 개요
2. CVD의 구조
3. CVD의 원리

PVD(physical vapor deposition)
1. PVD 공정의 개요
2. PVD의 구조

Homogeneous Nucleation

Heterogeneous Nucleation

본문내용

1. CVD의 개요
1.1. CVD(화학 기상 증착법)공정의 개요
외부와 차단된 반응실 안에 Substate(기판)를 넣고 Gas를 공급하여 열, 플라즈마, 빛(UV or LASER), 또는 임의의 에너지에 의하여 열분해를 일으켜(Si 기판과 공급된 O2와 반응하 여 산화막을 형성 시키는 Diffusion 과는 달리) 기판의 성질을 변화 시키지 않고 solid Deposition를 이루는 합성 공정을 말한다
1.1.1. CVD System의 활용 범위
① Diamond thin film으로 coating된 향상된 음향성질의 speaker diaphragm Plasma CVD
② 향상된 마모 저항성을 지닌 bushings(관내에 끼우는 물질)과 textile 구성요소를 생산 하기 위한 Diamond-like carbon coating. Plasma CVD
③ Uncoated toll 보다 크게 우세하고 산업에의 적용성이 빨라진 Titanium carbide와 Titanium nitride CVD-coated carbide toll
④ MO CVD에 의해 증착된 Ir은 2000℃까지의 온도 범위에서 small rocket nozzle의 부식 저항성에 두드러진 향상을 나타낸다.
⑤ Advanced semiconductor의 요소의 생산에 우수한 CVD에 의해 생산된 Tungsten silicon oxide, metal silicides 및 other coatings
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