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평가점수D

[재료공학] cvd(Chemical vapor deposition)

등록일 2004.05.13 한글파일한글 (hwp) | 3페이지 | 가격 500원

목차

cvd
열cvd
열cvd의 특징
상압 CVD
감압 cvd
mocvd
플라즈마 CVD
고주파 플라즈마 CVD
고밀도 플라즈마 CVD
ERC 플라즈마 CVD
고주파 유도결합형 플라즈마(ICP) CVD
고밀도 플라즈마를 이용하는 ICP-CVD의 특징
헬리콘파 P-CVD

본문내용

열 CVD의 특징
장점: a) 원료 가스나 반응계(장치, 공급ㆍ배기)ㆍ조건의 설정에 따라 고순도의 박막이 형성된다.
b) 피복성이 좋다.
c) 플라즈마 CVD와 비교하여 장치 구성이 간단하다.
d) 플라즈마(이온)를 사용하지 않기 때문에 고속 입자의 충돌로 인한 손상이 없다.
e) 조건에 따라 선택 성장이 가능한 점 등을 들 수 있다.
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