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반도체 제조 공정

등록일 2004.04.09 파워포인트파일MS 파워포인트 (ppt) | 33페이지 | 가격 1,000원

소개글

반도체 제조 공정을 파워 포인트로
그림으로 표현하여 전체적인 공정을 표현
^^;

목차

없음

본문내용

Initial Wafer
2.Grow Thin Oxide
3.Implant Boron
4.Mask1
5.Pattern N-Well
6.Implant Phosphorus(Arsenic)
7.Strip Resist
8.Well Diffusion(Well Drive)
9.Strip Oxide &RCA Clean
10.Grow Oxide
11.Deposit Ntride
12.Mask2 : Pattern Active
13.Nitride/Oxide Etch
14.Silicon Trench Etch
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