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[세라믹공학] RF Magnetron Sputtering 법에 의한 (Ba,Sr)TiO3 박막의 제조 및 전기적 특성평가

등록일 2003.05.16 파워포인트파일MS 파워포인트 (ppt) | 11페이지 | 가격 1,000원

목차

dram
고유전율재료
실험방법

본문내용

1.기판세척
2.시편후면에 Ag페이스트 바른 후 기판 홀더에 부착
3.R.P및 TMP 이용 진공을 1*10-5Torr 이하까지 형성 후
기판온도 가열
4.초기 진공도가 4*10-6 Torr 이하가 되면 Ar과 O2 가스 유입
챔버내의 압력유지(2.0*10-2 Torr)

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