목차

1. CVD(화학적 기상도금)
2. PVD(물리적 기상도금)

본문내용

건식도금은 CVD(chemical vapor deposition)과 PVD(physical vapor deposition)으루 크게 분류할 수 있다. 건식도금기술은 소재(基板:기판에 엷은 금속 또는 금속화합물을 피복시킨다는 의미에서 박막(薄膜)제조기술(thin film technology)이라는 말을 많이 사용하고 있다.
이 중 CVD 법은 피복하고자 하는 표면 근처에서 막의 재질을 가진 가스를 가열하여 기판과 반응 분해 석출시키는 방법이다. PVD 법은 진공 중에서 피복(도금)하고자 하는 재료를 증발시켜서 소재표면에 응착시키는 방법을 말한다.

참고 자료

없음