목차

1. Purpose
2. Theory
3. Procedure of experimentation
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본문내용

1. Purpose
일반적인 반도체 공정에 대하여 개략적으로 알아보고, 세정 공정의 중요성과 세정 공정시 wettability의 정의에 대해 알아보고 측정 목적과 방법에 대해 알아본다.
그리고, 웨이퍼 표면의 wettability를 측정함으로써 반도체 웨이퍼 표면의 특정에 대하여 알아본다.

참고 자료

없음