목차

1. 실험목적
2. 이론
1. XRD(X-Ray Diffractometry)
(1)XRD의 개요
(2) XRD 분석의 종류
(3)활용분야
(4)장점과 단점
2. RBS(Rutherford Backscattering Spectrometry)
(1) RBS의 개요 및 원리
(2) RBS의 장점과 단점
(3) RBS의 응용분야
3. Silicide
(1) 실리사이드 형성
(2) 실리사이드 형성 kinetic 메카니즘
3. 실험 방법
4. 결과 및 고찰
- 실험결과

본문내용

Sputtering과 Vaccum Furnace로 인해 CoSi2가 형성되는지를 알아보고 형성된다면 그 두께는 어느 정도이고 저항은 어떻게 되는지 알아본다.

참고 자료

없음